2月15日，上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告称，为了进一步巩固在国内半导体材料行业的领先地位，实现我国集成电路关键工艺化学材料的自主可控，拟与上海化学工业区管理委员会、上海化学工业区发展有限公司签订《投资意向协议》，变更全资子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司注册于上海化学工业区，并启动位于上海化学工业区的项目建设，该项目主要用于开发集成电路关键工艺材料。经初步测算，该项目总投资金额约为 58000 万元人民币，占地约 104 亩。
该项目预计年产 500 吨 I 线、KrF、ArF 干/湿法光刻胶；年产 10000 吨光刻胶稀释剂；年产 5000 吨高选择比氮化钛刻蚀液系列产品；年产 15000 吨干法蚀刻清洗液系列产品。项目拟于 2023 年取得施工许可证，2025 年底前竣工，2026 年 6 月底前投产。
为了进一步巩固在国内半导体材料行业的领先地位，实现我国集成电路关键工艺化学材料的自主可控，上海新阳目前需要扩大产能以满足未来客户需求。项目投产将使上海新阳清洗液系列产品、光刻胶系列产品、刻蚀液系列产品的产能获得极大提高。
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