陶瓷真空吸盘是由多孔陶瓷材料制作,孔径分布均匀,内部相互贯通,表面经研磨后,光滑细腻,平整性好,广泛应用于硅、蓝宝石、砷化镓等半导体晶圆的制造环节。
图 陶瓷吸盘应用示意图,来源:RPS
一、什么是陶瓷真空吸盘
1、陶瓷真空吸盘的工作原理
多孔陶瓷真空吸盘(Porous Ceramic Vacuum Chuck),是利用真空吸附原理固定工件的承载平台,真空吸盘传递真空的部分为多孔陶瓷板,多孔陶瓷板装配在底座的沉孔中,其周边与底座粘结密封,底座为精密陶瓷或金属材料加工而成。藉由金属或陶瓷底座以及特殊多孔质的陶瓷结合,内部精密气道的设计,给予负压时,可以将工件平滑稳固地吸附于真空吸盘上。
2、陶瓷真空吸盘的特点
3、陶瓷真空吸盘VS传统金属吸盘
二、陶瓷真空吸盘在半导体领域的应用
推荐活动:【邀请函】2024年半导体陶瓷产业论坛(2024年4月12日·泉州)
The Semiconductor Ceramics Industry Forum
“功率半导体封装用DBC/AMB陶瓷衬板、半导体设备精密陶瓷部件”
福建省泉州市晋江市滨江路999号
深圳市艾邦智造资讯有限公司
福建华清电子材料科技有限公司
时间 |
议题 |
演讲单位 |
8:45-9:00 |
开场致辞 |
艾邦创始人 江耀贵 |
9:00-9:30 |
半导体设备中陶瓷零部件的应用现状与前景 |
清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室 潘伟 教授 |
9:30-10:00 |
氮化铝基板和器件与半导体应用 |
华清电子 向其军 博士 |
10:00-10:30 |
茶歇 |
|
10:30-11:00 |
先进陶瓷材料自主实验技术与智能化研发平台 |
北京科技大学 教授 白洋 |
11:00-11:30 |
超声辅助加工在半导体精密陶瓷结构件上的应用 |
极智超声 总经理 乔家平博士 |
11:30-12:00 |
高性能氮化铝和氧化铝粉体连续式生产关键工艺技术 |
中铝新材料 氮化物事业部经理 吴春正 |
12:00-13:30 |
午餐 |
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13:30-14:00 |
第三代功率半导体封装用AMB陶瓷覆铜基板的研究与进展 |
北京科技大学 教授 杨会生 |
14:00-14:30 |
高性能陶瓷基板产业化需要突破的关键技术 |
南京航天航空大学 教授 傅仁利 |
14:30-15:00 |
科浩热能原位排胶烧结一体化大气烧结炉在半导体陶瓷产业烧成中的应用 |
科浩热能 刘培新 总经理 |
15:00-15:30 |
茶歇 |
|
15:30-16:00 |
高导热氮化硅材料的研究与应用进展 |
中材高新氮化物陶瓷有限公司北京分公司 研发中心主任 李镔 |
16:00-16:30 |
多层共烧陶瓷装备的新领域新应用 |
中电科二所 马世杰 高级工程师 |
16:30-17:00 |
真空吸盘在集成电路关键装备中的应用以及发展方向 |
三磨所 精密特材事业部部长 宋运运 |
17:00-17:30 |
半导体领域用碳化硅陶瓷部分产品的开发与生产技术研究 |
北方高科 研发部工程师 黄凯 |
17:30-20:00 |
晚宴 |
演讲及赞助请联系李小姐:18124643204(同微信)
点击阅读原文,即可在线报名!
原文始发于微信公众号(艾邦陶瓷展):一文了解陶瓷真空吸盘在半导体晶圆制造中的应用
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