随着半导体的尺寸越来越小，对于工艺纯度的需求也不断提升。戈尔提供垫片、过滤器和电缆，保持工艺的纯度，另外还有 EUV 光刻技术的全新开发成果，帮助制造商为将来做好准备。
概述
微芯片可以做到多小？数十年以来，随着智能手机、笔记本电脑、LED屏幕和其他电子产品的微芯片越来越小，技术行业的制造商不断压缩半导体的尺寸。半导体的线宽已经从微米挤压到了纳米级别，同时还实现了更高的处理能力和记忆能力。一纳米是一米的十亿分之一，100,000纳米并排才有人类头发直径粗细。
这是摩尔定律的基础，即一个集成电路上的晶体管数量每两年就会翻一番。戈登·E·摩尔于1965年提出了这个大胆的说法，而时至今日，这条定律都一直生效。
但是，摩尔定律会继续有效吗？可能有两个问题会拖慢半导体的发展脚步：生产更小、更强大的半导体成本高昂，制造和加工半导体时需要更高的纯度。极小的外界微粒就可能对这些微观半导体造成水缺陷；而这样的缺陷可能降低良率，需要成本高昂的维护时间。
简而言之：随着半导体线宽缩小，生产成本和纯度难度会越来越高。
长期以来，戈尔一直是不断突破这些挑战的技术公司的合作伙伴。我们提供高流率的过滤器、微过滤介质、电缆和各种密封解决方案，保障工艺无缝、安全地进行。我们的聚四氟乙烯(PTFE)材料呈化学惰性，经久耐用，可为半导体制造商提供无可置疑的纯度。
技术行业依赖聚四氟乙烯(PTFE)等含氟聚合物实现清洁度和化学兼容性。随着半导体进一步缩小，制造商将需要在利用聚四氟乙烯(PTFE)薄膜创新方面取得帮助，以便让微芯片变得更智能、更快、更小——而戈尔已经找到了满足这一需求的方法。
着眼未来：EUV 光刻技术电缆
半导体的下一个重大新兴科技是EUV光刻技术，这种工艺可以在半导体晶圆中刻写更多电路。在光刻技术系统中，光线将图像传输到晶圆上，就如同照相机利用光线将图像传输到胶片上一样。EUV光刻技术被视作计算机芯片的未来；其可以产生更短的波长，允许在一个芯片上容纳更多电路。
虽然半导体行业仍然需要消除这一新方法带来的挑战，但戈尔正在放眼未来。2009 年，一家光学系统制造商委任戈尔为长期合作伙伴，以便为EUV光刻技术系统运转所必不可少的超真空、低压和超洁净环境提供适用的电缆组件。
因为我们从早期即投入开发新EUV工艺使用的电缆接头，我们在制造商采纳新方法时已经做好了协助准备。GORE®电缆降低了集尘问题，提升了系统性能和良率；无脱落和化学惰性的电缆是专门针对洁净室使用而设计的。我们针对EUV光刻技术的全新系列电缆组件具有超低释气率，可防止在超真空环境下电缆组件释放出的气体凝结污染计算机芯片。我们的电缆质量出众，使戈尔成为市场上少数几家可为EUV光刻技术提供清洁和测试产品的公司之一。
即使有些制造商尚未准备好采纳EUV光刻技术，戈尔也提供各种实现高性能、高洁净的电缆，包括针对加工设备、测试和测量以及集成的高柔性、高数据率和微波射频电缆。
基于纯度的产品组合
由于半导体尺寸极小，即使最轻微的污染也可能损害其性能。
戈尔的材料能让半导体加工环境保持洁净。通过采用聚四氟乙烯(PTFE)作为基础，我们的材料呈化学惰性，可耐受极端温度，并且经久耐用。我们的产品普遍比竞争对手的产品更小、更轻，是提升工艺良率和减少停机时间，以及成本的知名产品。
除了电缆和电缆组件之外，我们还提供：
微滤过滤介质，提供薄膜和层压两种形式，可以集成到各种过滤外壳系统中。这些介质可支持当今微电子行业性能最高的过滤器。
密封 解决方案，例如板状垫片、密封垫片、带状垫片和GORE®接口密封件。每种产品均完全以膨体聚四氟乙烯（ePTFE），具有高抗蠕变和抗冷流性能，因此将一直保持固定，可靠密封。
35多年来，戈尔一直是全球技术创新领先企业的主要合作伙伴，为高标准、严要求的工艺提供戈尔品质的纯度。随着行业不断适应技术趋势的变化——智能手机和可穿戴设备越来越小，需要最小的半导体芯片——我们也将不断创新，向技术公司提供关键的产品和支持，帮助他们缩小产品，提升利润。
文章来源：戈尔，原文链接：https://www.gore.com.cn/products/industries/semiconductor-microelectronics
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