LIDE 激光诱导深度蚀刻技术 | More than TGV
近年来,伴随着AI(人工智能) 概念的火热, 其背后的算力需求-GPU-2.5/3D封装-板级封装等概念随之水涨船高。特别是去年INTEL 高调宣布其玻璃芯封装基板项目后,TGV+玻璃基板的概念更是瞬间引爆国内的封装厂、投资者、各大 (自)媒体和其他相关从业者。此概念更是成为了目前的增长点和投资热点,不但各大厂商纷纷入局, 各种平台,朋友圈到处充斥着玻璃芯片,TGV 以及玻璃基板等概念的普及,调研和各种渠道消息。以至于POPLP 的玻璃载体和显示面板基板等概念也被混肴其中。冷寂多年的TGV(玻璃通孔)技术被捧到了前所未有高度。
但是,目前主流的超快激光改性+湿法刻蚀加工TGV 技术的发明者和长期推动者LPKF公司所开发的LIDE激光诱导深度蚀刻技术绝不是加工玻璃通孔(TGV)这么简单, LPKF的LIDE技术定位是一种全新的无损,无应力玻璃加工技术。除TGV外,还可以通过各种手段对玻璃材料进行近似乎任意的加工。其产品充分利用玻璃材料的各种性能优势, 广泛应用于光学,量子技术,传感等领域。
China MEMS 2024 展会信息
展会时间:2024年10月23-25日
展会地点:苏州国际博览中心
展 位 号:233
1.
一步成型:玻璃通孔,盲孔,通槽,盲槽
LIDE加工的第一步是通过单个激光脉冲对玻璃进行图形化。根据设计图形,以激光直写的方式对玻璃进行选择性激光改性。在第二个工艺步骤中,整片玻璃进行各向同性的湿法蚀刻工艺,经过激光改性区域的玻璃材料的蚀刻速度远远快于未经加工的区域。这种方式加工可在玻璃上高精度, 无缺陷的进行微结构加工, 又兼具成本优势。
LIDE技术可以实现在一个工艺步骤即可完成各种结构。通过LIDE技术可以在同一工艺步骤内制作各种玻璃微结构,如TGV或盲孔、透切割,盲槽腔体,细槽以及其他结构。
2.
More Than TGV — 玻璃基MEMS上的应用
激光诱导深度蚀刻(LIDE)工艺制造的无缺陷玻璃基微系统在保持原材料高断裂强度的同时,具备了高“弹性”特征并展示出这种“弹性“ 的高度重复性。这种性能可以被整合成为诸如弹簧结构,垂直或水平膜结构, 还有驱动或传感元件。
力-位移传感测量
• LIDE 加工的玻璃弹簧系统
• 横截面30 µm × 260 µm的微弹簧结构, 整个系统平台为X-Y-(5 mm × 7 mm)
• 整个X-Y 系统在Z轴的位移极限范围为4.3mm
• 可重复性高,断裂强度约为1GPa。
径向梳齿驱动光学反射测量
• 两片加工了微结构和溅射金属化薄膜的玻璃晶圆堆叠在一起
• 间隙宽度为5 µm 的梳状结构
• 压电共振驱动光学反射系统在±3.1° @ 220Hz范围内做面外角偏转
• 光反射区域表面积7 mm x 7 mm
3.
MORE THAN TGV— 微流控芯片
微流控技术是MEMS技术在流体处理方面的一个重要分支。微流控芯片(MicrofluidicChip) 又称为芯片实验室(Lab-on-a-Chip)或生物芯片,利用MEMS技术将一个大型实验室系统缩微在一个玻璃或塑料基板上,从而复制复杂的生物学和化学反应全过程,快速自动地完成实验。其特征是在微米级尺度构造出容纳流体的通道、反应室和其它功能部件,操控微米体积的流体在微小空间中的运动过程,从而构建完整的化学或生物实验室。
4.
More Than TGV— 量子技术
5.
More Than TGV— 光纤阵列
关于更多LIDE技术最新进展与应用,诚邀各位莅临LPKF展位233指导交流。
LPKF 乐普科 | LIDE
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原文始发于微信公众号(LPKF乐普科):超越TGV—LPKF 激光诱导深度蚀刻(LIDE)技术