基于FOPLP工艺多I/O芯片封装的可靠性研究及优化

中文引用格式:江京, 刘建辉, 陶都, 等. 基于FOPLP工艺多I/O芯片封装的可靠性研究及优化[J]. 电子与封装, 2025, 25(2): 020202.

近年来,5G通信、雷达、物联网及人工智能等技术迅猛发展,推动了电子产品向高集成度、小型化、便捷化的方向迈进。这一趋势促使封装技术不断创新,旨在实现多芯片或元器件的高效集成,以提升封装的整体效能。在此背景下,扇出型板级封装(FOPLP)作为一种先进的微电子封装技术,凭借其成本效益高、集成度高及材料利用率优异等特点,赢得了业界的高度关注。
随着集成电路芯片特征尺寸的持续缩减和集成密度的不断提升,输入/输出(I/O)接口的间距日益缩小,数量显著增加。这种变化给多I/O芯片产品带来了挑战,尤其是在激光刻蚀工艺中,随着孔数量的增多,封装体内部的结构应力增大,可能影响到产品的长期稳定性和可靠性。
天芯互联科技有限公司江京撰写的《基于FOPLP工艺多I/O芯片封装的可靠性研究及优化》一文系统梳理了基于FOPLP工艺多I/O芯片封装产品的可靠性研究进展,深入探讨了封装结构、制备工艺对多I/O芯片产品在BHAST条件下电学和力学性能的影响,这些性能与产品厚度、布线设计以及盲孔位置等因素密切相关。此研究方法不仅具有高度的适用性,能够广泛拓展至各类封装产品中,而且为提升多I/O芯片封装产品的可靠性提供了新的视角与策略,为产品在长期可靠应用中的表现提供了试验验证和数据支撑。

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先进封装设备类似前道晶圆制造设备,供应商受益先进封测产业增长。随着先进封装的发展,Bumping(凸块)、Flip(倒装) 、TSV 和 RDL(重布线)等新的连接形式所需要用到的设备也越先进。以长球凸点为例,主要的工艺流程为预清洗、UBM、淀积、光刻、焊料 电镀、去胶、刻蚀、清洗、检测等,因此所需要的设备包括清洗机、PVD 设备、光刻机、 刻蚀机、电镀设备、清洗机等,材料需要包括光刻胶、显影剂、刻蚀液、清洗液等。为促进行业发展,互通有无,欢迎芯片设计、晶圆制造、装备、材料等产业链上下游加入艾邦半导体先进封装产业链交流群。

作者 808, ab