联华电子与Cadence于8月24日共同宣布,Cadence的模拟与混合讯号(Analog/Mixed Signal, AMS)芯片设计流程获得联华电子22奈米超低功耗 (22ULP)与22奈米超低漏电(22ULL)制程认证,此流程可优化制程效率、缩短设计时间,加速5G、物联网和显示等应用设计开发,满足日渐增高的市场需求。

 

联电的22奈米制程具有超低功耗和超低漏电的技术优势,可满足在科技创新发展下,使用时间长、体积小、运算强的应用需求。经联电认证的Cadence AMS设计流程,提供了整合可靠度接口 (Unified Reliability Interface, URI),在22奈米制程设计时,可确保电路可靠度及使用寿命,并提供优化的设计,让模拟与混合讯号芯片设计更精确完美。此外,设计流程并提供示范电路,让用户在设计时可灵活套用,提高设计效率与精确性。

 
 

Cadence AMS 流程由根据22奈米制程设计套件(PDK)的整合解决方案和方法组成,以加速完成设计,包括:

  • Virtuoso®平台包括原理图编辑、仿真设计环境(ADE)和布局 XL 工具支持。
  • Spectre® AMS Designer结合Spectre X Simulator 和Xcelium Logic Simulation引擎的强大功能,为由晶体管、行为、时序和寄生模块的组成设计提供一致和准确的结果。
  • Voltus™-Fi客制化电源完整性解决方案,以最新图形用户接口则提供电子迁移与电阻电位降(EM/IR)分析,可快速输入所需的EM规则。

 
 

联华电子组件技术开发及设计支持副总经理郑子铭表示,联电为全球半导体晶圆专工业的领导者,并持续开发先进的特殊制程以供应快速成长的5G、物联网和显示等芯片市场。相较于28奈米制程,联电的22 奈米制程能再缩减10%的晶粒面积、拥有更佳的功率效能,以及强化射频性能等特点。这次与Cadence的合作,为联电22 ULP与 22 ULL制程技术的芯片客户提供业界领先的可靠与高效率的流程方案,并获得设计上客制化的支持,协助客户提升生产力,并快速完成全芯片设计定案,增进芯片设计的速度与效率。

 
 

Cadence客制化IC及PCB事业群产品管理副总裁Ashutosh Mauskar提到:随着5G、物联网和智能穿戴装置设计复杂度的日益增加,模拟与混合讯号技术的提升将是先进芯片设计成功的至要关键。Cadence支持的22ULP与22ULL AMS设计流程,专为联电芯片技术作客制的优化,提供设计、验证与设计实现等全方位的解决方案。藉由此Cadence与UMC的合作,共同的客户能够在 22ULP/ULL上快速实现创新的混合讯号设计。

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作者 gan, lanjie