9月5日，佳能公司宣布，将开始为半导体光刻系统提供"Lithography Plus"解决方案平台。该系统融合了佳能在半导体光刻系统支持方面 50 多年的专业知识和公司收集的大量数据，以最大限度地提高支持效率，并提出和实施优化的系统流程。
佳能提供广泛的 KrF 半导体光刻系统阵容，以及支持各种设备的 i-line 步进器，并且长期以来为这些系统提供用户支持。Lithography Plus 利用这些积累的专业知识和数据作为解决方案平台，既提高了支持操作的效率，又提高了光刻系统的操作效率，从而有助于提高系统用户的生产力。
佳能的 Lithography Plus 系统包括分析光刻系统状态、定期维护结果、系统停机原因和其他有价值信息的功能。系统用户可以利用这些数据在维护或部件更换期间更轻松地创建系统运行计划，从而实现适当的维护。此外，仪表板功能通过提供在其工作场所运行的所有半导体光刻系统的整体视图，有助于进一步提高用户维护工作的效率。
异常检测功能监控系统运行状态并检测异常和潜在故障迹象，以防止系统意外关闭。此外，自动恢复功能有助于重新启动系统操作。 当无法自动恢复时，系统恢复指令以通俗易懂的方式呈现给操作者，便于恢复更顺畅。更重要的是，通过远程礼宾服务，系统状态可以与佳能的专家工程师共享，帮助他们更好地了解手头的情况，并在客户支持呼叫期间提供详细的帮助。
工艺解决方案功能提供了佳能在其长期业务历史中积累的成功光刻系统优化配方的综合集合。通过提供自动化和优化的"recipes"来配置精确对准精度和线宽控制等设置，即使是新实施的半导体光刻工艺也能实现高良率，从而支持提高系统生产力。Lithography Plus 还能够与 APC和其他工艺设备连接，从而与制造管理系统进行更好的协调。