Mars 4410 是碳化硅器件产线中的关键装备，用于对碳化硅衬底片、外延片、腐蚀片的缺陷检测。设计团队经过两年不懈努力，攻克了激光散射、显微成像等光学检测核心关键技术。
设备采用差分干涉相衬、光致发光、暗场等多种检测手段，晶圆检测可与数据分析并行处理，晶圆缺陷可与器件失效相关联，具有低噪声和高分辨率成像、高检测通量、高检出率和准确性等优势，能满足提升 SiC 器件良率的需求。
在国家及省、市产业政策支持引导下，中电科风华加快技术攻关，推出碳化硅缺陷检测设备，填补国内空白，打破国际垄断，实现进口替代，积极响应我国第三代半导体产业发展的迫切需求，解决了“卡脖子"技术难题。中电科风华公司将会继续致力于产业链自主化、国产化建设，为我国第三代半导体产业自主可控和高质量发展保驾护航!
原文始发于微信公众号（中电科风华）：半导体缺陷检测设备 Mars 4410 成功出货!中电科风华为我国第三代半导体产业发展保驾护航