据报道,U-MAP将从2024年下半年开始量产使用具有高散热性的氮化铝(AlN)的电子设备散热材料。计划每年供应约 4,000 平方米作为电动汽车 (EV) 和工业激光器的基板。使用纤维状 AlN 的基板是该公司的强项之一,其强度大约是竞争对手的粉末状 AlN 的两倍。 该公司旨在以接近每平方米 16 日元的市场价格提供产品。
产品以陶瓷基板的形式提供,用于电子设备。使用 AlN 的基板具有高散热性,因此具有能够抑制因热量累积导致的性能下降的优点。但是,与氮化硅相比,断裂韧性值只有一半左右,在耐久性方面是弱点。此次,U-MAP利用制作纤维状AlN的技术,开发出兼具散热性和耐久性的基板,断裂韧性值达到与氮化硅相同。社长西谷健治表示:"我们可以在保持散热性能的同时使零件更小。"
首先,U-MAP计划在光纤通信、工业激光零部件等产品生命周期较短的领域将产品销往国内市场,预计最快2027年供应EV逆变器(功率转换器)。
目前已经筹集约7亿日元用于构建生产体系。该公司计划在其位于爱知县濑户市的工厂安装设备,以去除纤维状 AlN 中所含的杂质。在陶瓷基板的生产方面,该公司与冈本硝子合作,将生产外包。U-MAP 是名古屋大学的一家企业,成立于 2016 年。 该公司在纤维状 AlN 制造技术方面具有优势,该技术采用从气态中提取固体的气相生长方法。
来源:日刊工业新闻
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