投资超30亿美元，英特尔扩建D1X工厂

4月11日，英特尔宣布扩建其位于俄勒冈州希尔斯伯勒的领先工厂 D1X。

英特尔首席执行官 Pat Gelsinger 表示："自成立以来，英特尔一直致力于推进摩尔定律。这个新的工厂空间将增强我们IDM 2.0 战略所需的加速流程路线图的能力。"

Gordon Moore Park 是英特尔全球技术开发团队的总部，该团队负责通过创建新的晶体管架构、晶圆工艺和封装技术来推进摩尔定律，这些技术支撑着公司产品路线图，并为从个人计算机到云基础设施再到 5G 网络的各种应用奠定了基础。该团队由大约 10,000 名员工组成，主要位于希尔斯伯勒，被公认为世界上卓越的硅工艺工程团队之一。

凭借高 k 金属栅极技术、三栅极 3D 晶体管和应变硅等发明，英特尔始终如一地提供基础工艺创新，紧跟摩尔定律的步伐。

执行副总裁兼技术开发总经理 Ann Kelleher 表示："这些开创性的工艺创新都起源于俄勒冈州。随着我们 D1X 工厂的新扩建，俄勒冈州已做好提供下一代领先技术的准备。英特尔是世界上唯一一家在美国拥有大部分工艺和封装研发以及大批量尖端半导体制造的公司。"

去年，英特尔公布了其历史上最详细的工艺技术路线图之一。该公司已加快创新步伐，以实现年度改进节奏，利用突破性技术为新产品提供动力，直至 2025 年及以后，包括： 
 

• RibbonFET，十多年来第一个新的晶体管架构。
  
• PowerVia，一种业界首创的新型背面供电方法。
  
• 业界首次采用 High NA EUV的 下一代光刻机。
  

凭借Mod3 的扩张，投资超30亿美元来扩建 D1X，英特尔工程师现在拥有额外 27万平方英尺的洁净室空间来开发下一代硅工艺技术，在任何时间，多种逻辑处理技术都处于 D1X 工厂开发周期的不同阶段。