12月8日，吉盛微（武汉）新材料科技有限公司碳化硅制造基地在武汉经开综合保税区正式投产。
据介绍，吉盛微（武汉）新材料科技有限公司成立于2023年3月，为盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司在武汉投资成立，公司位于武汉经济技术开发区综合保税区工业园内，主要从事半导体及泛半导体设备用CVD SiC原材料及SiC 部件（Ring、Shower Head、Boat、Fin、Tube、plate、Susceptor、Bolt、Pin等）、超高纯高精密陶瓷材料及部件、SiC Epi Wafer、CVD SiC设备的研发及生产制造。
盛吉盛半导体武汉碳化硅项目规划一期厂房2万平方米，二期规划30亩地，项目总投资约15亿元。目前，吉盛微已经完成了刻蚀、扩散、外延、快速热处理等多个工艺的零部件、耗材开发工作，部分产品填补了国内空白，初步具备稳定的生产供货能力。信息来源：经开产投集团、武汉经开区