据媒体报道，半导体设备厂京鼎成功跨入EUV光罩自动化领域，3奈米半导体制程自动化惰性气体充填设备及层流气帘洁净方案通过客户验证。
瞄准极紫外光（EUV）将在5奈米后成为曝光制程主流，京鼎延伸扩展高洁净自动化设备研发技术，以精密定位精度与制程微环境监控技术，开发EUV光罩护膜贴合机，通过客户制程验证，成功跨入EUV光罩自动化领域。
京鼎董事长刘扬伟在致股东报告书中，宣布多项研发成果，5奈米半导体制程自动化惰性气体充填设备及层流气帘洁净方案皆已量产并大量装机，3奈米的半导体制程自动化惰性气体充填设备及层流气帘洁净方案也顺利通过客户验证。
刘扬伟指出，京鼎的机能水生成设备，完成5奈米制程量产，并导入3奈米制程验证。标准型半导体晶圆分拣机，以及先进封装制程复合式晶圆堆栈盒包装拆包、分拣设备，陆续获得晶圆制造及封测大厂采用。
刘扬伟表示，受惠市场转趋热络，原客户的订单数量增加，加上开发新产品及新客户，扩大市场占有率，预期今年销售量将持续成长。
原文始发于微信公众号（艾邦半导体网）：京鼎抢进EUV光罩自动化 3奈米方案通过客户验证
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