半导体是我们生活的基石，并且不断进化。在半导体的微细化和新材料开发中，特殊的光——"EUV光"（极紫外光）是不可或缺的。最近，美国的一家最先进工厂也引入了高精细的EUV光刻设备。
日本的半导体产业在材料领域的新材料开发方面具有优势，但未来的开发必须依赖EUV光。然而，目前利用EUV光进行研究开发主要依赖海外的测试研究机构。这导致了因出口管制而延长了样品运输时间、照射成本高昂、技术外流等问题，进而引发了产业竞争力下降的担忧。
为此，日本九州大学通过全资子公司"九大OIP株式会社"，于今年4月1日成立了一家新公司 ＥＵＶフォトン株式会社，提供EUV光照射和解析评价服务。在这家新公司中，除了进行EUV光的照射外，还将致力于培养能够解析和评价照射结果的人才，以应对即将到来的EUV光时代。
此外，为了应对更中长期的研究开发课题，九州大学将以新公司的服务为杠杆，进一步激活半导体开发相关的共同研究和人才培养。
实用化的EUV光源是基于九州大学冈田龙雄教授（现为九州大学名誉教授）等人在2005年发表的论文技术。九州大学凭借超过20年的积累，不仅拥有进行EUV光照射所需的研究成果、技术和人才，还拥有大量用于材料解析评价的设备。
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