近日，杭州光机所孵育企业杭州富加镓业科技有限公司（以下简称：富加镓业）在氧化镓MOCVD同质外延薄膜研发方面取得重要技术突破，在富加镓业的氧化镓单晶衬底上同质外延出厚度超过10微米的薄膜，经国家权威检测机构验证，该技术已达到国际领先水平，相关标准化产品将于2025年4月上市，为新能源汽车高压平台、智能电网柔性输电装置等高端装备提供关键材料支撑。
第三方检测机构——中国计量科学研究院的测试结果表明，MOCVD外延薄膜的背景载流子浓度控制低至3.6E15 cm-3，迁移率达到172.7 cm2/V·s。基于MOCVD技术的高质量氧化镓同质外延薄膜的研制成功，未来将助力3300V以上垂直型高压功率电子器件产业快速落地。
MOCVD外延技术具有生长结晶质量高、厚度均匀性好、沉积速度快、掺杂可精准调控等优势，在砷化镓、氮化镓等第二代、第三代半导体产业领域已经获得规模化量产应用。长期以来，MOCVD外延生长氧化镓薄膜还存在背景载流子浓度高、缺陷密度高等问题。
富加镓业利用MOCVD技术，基于自主生产的氧化镓衬底产品，通过衬底表面优化、多步外延生长等工艺策略，大大提高了外延薄膜的晶体质量和厚度，实现了低背景载流子浓度和高迁移率的氧化镓同质外延薄膜，综合性能指标达到国际先进水平。厚度10微米以上MOCVD同质外延薄膜的成功开发，表明了MOCVD外延技术路线具备量产大厚度、高质量氧化镓同质外延片的能力，可以为垂直型氧化镓功率器件的开发提供材料支撑保障。
企业简介 杭州富加镓业科技有限公司成立于2019年12月31日，是杭州光学精密机械研究所注册成立的第一家“硬科技”企业，公司以“让世界用上好材料”为愿景，开展宽禁带半导体氧化镓材料的产业化工作，主要从事氧化镓单晶材料生长、氧化镓衬底及外延片研发、生产和销售工作，产品主要应用于功率器件、微波射频及光电探测等领域。 目前，公司已获得多项荣誉：2022年获得浙江省科技型中小企业；2023年获得国家高新技术企业；2024年获得杭州市企业高新技术研发中心及浙江省专精特新中小企业；在氧化镓领域，承担了国家发改委项目1项，国家工信部项目1项，参与了国家自然科学基金委、浙江省、上海市等国家及省部级项目3项。另外，获得国际专利授权12项（美国6项，日本6项），国内专利授权40项，“富加镓业”商标认证注册3项，软件著作权（“一键长晶”控制软件）3项。
原文始发于微信公众号（杭州光学精密机械研究所）：企业动态 | 富加镓业氧化镓MOCVD同质外延技术取得突破，助力下游垂直功率电子器件产业落地