
电镀设备
• 技术突破:尊恒半导体研发出全球最大、超速度双轨三天车510*515大板级半导体电镀工艺设备,攻克了玻璃基板tgv后制程工艺难题,实现了≥1:15到1:25ar高深径比,种子层电镀表现优异。
• 工艺优势:通过非单面电镀铜实现玻璃通孔实心填充,具备tgv通孔密度高、tgv厚度尺寸范围大、热力学可靠性高、圆片级/板级工艺流程简单等优点。
• 应用价值:为玻璃基面向芯粒集成、2.5d/3d堆叠和光电共封装cpo等先进封装用tgv转接板提供了商业性实操可行的优选金属化路线,满足了计算机、网络通讯、消费电子等多领域需求。

去胶设备
• 全自动化操作:尊恒半导体的全自动去胶设备,能有效提高去胶效率和精度,减少人工操作带来的误差和风险。在半导体后封装工艺中,对于去除晶圆或基板表面的光刻胶等物质起着关键作用,确保后续工艺的顺利进行。
• 技术特点:设备采用先进的去胶技术和工艺,能够针对不同类型的胶材和不同的封装结构,实现高效、温和的去胶过程,既保证去胶效果,又不会对芯片或封装材料造成损伤,有助于提升产品的良率和质量。

板级湿制程设备
• 功能多样性:可涵盖清洗、蚀刻、显影、超粗化等多种湿制程工艺,满足板级封装中不同环节的处理需求。例如在玻璃基板的处理上,能进行高精度的蚀刻和显影操作,为后续的金属化和布线等工艺提供良好的基础。
• 高效与稳定性:设备设计先进、合理,具有节约空间、产能大及性价比高的特点。通过精确的工艺控制和稳定的运行,能够在大尺寸板级封装中实现高效的湿制程处理,提高生产效率和产品一致性。

配套药水技术
• 研发实力:尊恒半导体成立了电化镀研究院、药水联合开发及打样实验室,专门针对电镀药水进行研发。
• 性能优势:其研发的药水与设备匹配度高,通过垂直电镀法,能利用气泡上升和液体向下流动产生的涡流,使金属离子均匀分布,实现高精度电镀,提升良率4-6%。
总体而言,尊恒半导体的板级设备及配套药水技术,在工艺创新、性能提升和应用拓展等方面都取得了显著成果,为半导体后封装时代的板级封装工艺提供了有力的支持,推动了行业的发展。
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原文始发于微信公众号(艾邦半导体网):苏州尊恒半导体将参加2025玻璃基板TGV产业链高峰论坛
