分类： 化学机械平坦化

化学机械平坦化

赴新程 创未来｜华海清科第500台12英寸CMP装备出机

2024-07-14 808, ab

近日，华海清科股份有限公司（简称“华海清科”，股票代码：68…

化学机械平坦化 半导体 晶圆

芯诺半导体TTV＜1μm超高平坦度抛光晶圆开发成功 国产半导体再添新星

2024-01-27 liu, siyang

随着全球科技的飞速发展，半导体作为现代电子工业的核心，其重要…

化学机械平坦化 投融资

半导体化学机械抛光设备厂商致领半导体完成数千万元preA轮融资

2024-01-12 gan, lanjie

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化学机械平坦化 材料

鼎龙（仙桃）半导体材料产业园投产

2023-11-16 gan, lanjie

11月16日，在距离鼎龙集团本部45分钟车程的鼎龙（仙桃）半…

化学机械平坦化 最新项目 材料

博来纳润纳米氧化硅、半导体CMP抛光液、CMP抛光垫材料项目开工

2023-09-20 gan, lanjie

  9月20日上午，衢州博来纳润电子材料有限公司“…

化学机械平坦化

富士胶片宣布投资20亿日元建设熊本新工厂扩大CMP浆料产能

2022-09-08 gan, lanjie

2022 年 9 月 8 日，日本富士胶片公司（FUJIFI…

化学机械平坦化

总投资200亿日元，昭和电工材料计划将CMP浆料产能提高20%

2022-09-01 gan, lanjie

9月1日，日本昭和电工材料株式会社（Showa Denko …

化学机械平坦化

杜邦计划在投资5000万美元新建CMP材料工厂

2022-08-23 gan, lanjie

据外媒报道，杜邦电子与工业部门的子公司杜邦半导体技术公司已选…

化学机械平坦化

CMP抛光垫产品销售大增，鼎龙股份2022年上半年营收同比增长19.72%

2022-08-22 gan, lanjie

湖北鼎龙控股股份有限公司近日发布2022年半年度报告，202…

化学机械平坦化

杭州众硅推出首台6抛光盘CMP设备

2022-08-14 gan, lanjie

8月14日下午，众硅TTAIS™300 暨国际首台6抛光盘C…