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半导体产业资源汇总
光刻胶/光阻/光致抗蚀剂主要由感光剂(光引发剂)、聚合剂(感光树脂)、溶剂与助剂构成。原理是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形转移到加工衬底上，来达到在晶圆上刻蚀出所需图形的目的。
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