半导体材料是指在常温下导电性能介于绝缘体与导体之间的材料,电阻率在10-3~108Ωcm。半导体材料是制作晶体管、集成电路、电力电子器件、光电子器件的重要基础材料。(https://www.ab-sm.com/)
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图源:东芝
半导体材料的种类繁多,按照化学成分可分为元素半导体(Si、Ge)、化合物半导体(GaAs、SiC、GaN)和固溶体半导体;按组成元素可分为一元、二元、三元、多元等;按晶态可分为多晶、单晶和非晶;按应用方式可分为体材料和薄膜材料。体材料是单晶制片后直接用于制造半导体的材料,薄膜材料是在半导体材料或其他材料的衬底上生长的,纯度和晶体完整性较好,适用于三维电路制造。
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图  半导体材料,来源:东芝

一代材料,一代技术, 一代产业。半导体材料经过多年的发展,目前可以分为三代,形成了以硅为主,氮化镓、砷化镓、碳化硅等半导体新材料增强补充的产业局面:

表   主要半导体材料的性能特点及应用

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Si、SiC、GaN性能比较

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1、第一代半导体材料

第一代半导体材料:硅(Si)、锗(Ge)等元素半导体材料
  • 特点:硅材料储量丰富、价格低廉、热性能与机械优良、易于生长大尺寸高纯度晶体等特点,处于成熟发展阶段。但硅材料的物理性质限制了其在光电子和高频高功率器件上的应用。

     

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图  硅片,来源:中欣晶圆
  • 兴起时间:20世纪50年代
上世纪50年代,锗在半导体中占主导地位,主要用于低电压、低频、中功率器件,1958年由德州仪器公司杰克·基尔比发明的世界上第一块集成电路就是基于锗,但由于锗的耐高温、抗辐射性能较差,到60年代后期逐渐被硅取代。硅材料是目前产量最大、应用最广的半导体材料,95%以上的半导体产品是用硅材料制作的。
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图  1958年,基尔比发明了世界上第一块基于锗的集成电路
  • 应用领域:消费电子、通信、光伏、军事以及航空航天等。
以硅为代表的第一代半导体材料,取代了笨重的电子管,导致了以集成电路为核心的微电子工业的发展和整个IT 产业的飞跃,广泛应用于信息处理和自动控制等领域。

2、第二代半导体材料

第二代半导体材料:砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、磷化镓(GaP)、砷化铟(InAs)、砷化铝(AlAs)及其合金等。
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图  GaAs晶圆,来源:CMK
 
  • 兴起时间:20世纪70年代
以光纤通信为基础的信息高速公路和互联网的兴起,GaAs、InP等第二代半导体材料开始崭露头角。磷化铟半导体激光器是光通信系统的关键器件,砷化镓高速器件更开拓了光纤及移动通信新产业。
  • 特点:与硅相比,第二代半导体材料具有禁带宽度大、电子饱和漂移速度高、光电特性好、耐高温、抗辐射等特性。但由于GaAs、InP材料资源稀缺、大尺寸制备困难、价格昂贵、有毒性、污染环境,应用受到一定局限。
  • 应用领域:卫星通讯、移动通讯、光通信和GPS导航等领域。

3、第三代半导体材料

第三代半导体材料:宽禁带(Eg> 2.3eV ) 的半导体材料包括氮化硅(SiC)、硒化锌(ZnSe)、金刚石和氮化镓(GaN)等。
  • 特点:第三代半导体材料具备击穿电场高、热导率大、电子饱和漂移速率高、抗辐射能力强等优越性能

 

  • 兴起时间:20世纪90年代
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图   SiC晶圆,来源:BOSCH
  • 应用领域:新能源与智能电网领域、轨道交通与新能源汽车领域、5G通讯和物联网领域、光电子与显示领域、消费类电子和工业电机领域、航空航天与军工领域等。

目前研发较为成熟的材料是SiC和GaN等,其中氮化硼、氮化铝和金刚石等材料的研究则尚属于起步阶段。

半导体材料是器件研发的基础,半导体材料的发展必然要依赖于后期器件的开发应用,而器件的开发应用同时受制于材料的发展。半导体器件由同质结、异质结转向基于量子阱、量子线、量子点器件的设计与制造,这一转向改变了半导体材料的发展方向,在传统第一、第二代半导体材料发展的同时,加速发展宽禁带第三代半导体材料的趋势。

原文始发于微信公众号(艾邦半导体网):一文看懂半导体材料

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