2024年6月18日，JX金属株式会社决定投资扩充生产设备和开发设备，以满足对下一代半导体用CVD（化学气相沉积）和ALD（原子层沉积）材料不断增长的需求。
生成式AI的进步推动了数据中心和AI搭载的物联网设备市场的不断扩大。这些设备所需的高性能半导体需要实现更高的集成度，从而需要更精细和多层的薄膜，这增加了对CVD和ALD薄膜形成技术的需求。
JX金属在2024年2月成立了"CVD･ALD材料事业推进室"，以加速这些材料的商业化。迄今为止，JX金属已经建成了新型高纯CVD/ALD材料的量产线，并向客户发货了样品，并获得了良好的评价。
随着这种材料的全面采用预计需求将迅速扩大， JX金属决定在东邦钛业株式会社茅崎工厂和日立事业所白银地区投资建设生产设备。茅崎工厂计划在2024年度下半年、日立事业所在2025年度上半年开始引入并启动生产设备。为了应对未来的发展， JX金属还将强化新工艺和新材料的开发设备，以满足不断扩大的客户需求，并支持高性能半导体的快速进化。
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