EV集团和凸版光掩模联手加速纳米压印光刻在光子制造中的应用

2022 年 9 月 19 日，为 MEMS、纳米技术和半导体市场提供晶圆键合和光刻设备的领先供应商 EV Group (EVG) 和全球领先的光掩模供应商株式会社凸版光掩模（Toppan Photomask Co. Ltd. ）宣布他们已经达成一项协议，联手推进纳米压印光刻 (NIL) 作为光子学行业的大批量制造 (HVM) 工艺。

此次合作结合了 NIL 系统的领先供应商和先驱者以及半导体市场光掩模领先供应商的优势，旨在将 NIL 建立为光子制造的行业标准生产流程，并加速其在 HVM 中的实施以支持各种应用。这些应用包括增强/混合/虚拟现实耳机、智能手机和汽车传感器，以及医学成像系统。

作为这种非排他性合作的一部分，EVG 和 Toppan Photomask 将汇集他们的知识、专业知识和服务，利用 Toppan Photomask 的主模板和 EVG 提供的设备和工艺开发服务提供 NIL 开发套件，以进一步促进 NIL 技术及其在工业规模实施中的可能性。此外，EVG 将在位于奥地利总部的 EVG 的 NILPhotonics® 能力中心向感兴趣的公司提供 NIL 技术和产品演示。此外，彼此都将指定对方作为推荐的供应链合作伙伴，供有兴趣利用 NIL 支持其生产需求的公司使用。

据介绍，传统光刻技术在解决需要创建小型和任意形状图案的未来应用，例如超透镜，正在达到极限。NIL 是一种经过验证的、具有成本效益的工艺，可在复杂结构上生成纳米级分辨率图案，因此是这些应用的可行替代方案。NIL 可以在大面积上非常有效地复制这些复杂结构，设计约束更少，工艺流程非常简化，适用于原型制作和大批量制造。

20 多年来，EVG 一直是 NIL 技术的先驱，并通过 NIL 供应链中的合作伙伴关系帮助培育了更广泛的 NIL 生态系统——从光学材料（如粘合剂和抗蚀剂）、基板材料和印模生产供应商到光学元件和设备制造商。Toppan Photomask Co., Ltd.是自2022年4月起从凸版印刷株式会社剥离，作为凸版印刷株式会社（持股 50.1％）和INTEGRAL 株式会社的合资公司而成立。EVG 和 Toppan Photomask 分别通过在光刻和光掩模制造领域的两家知名行业领导者之间的合作，旨在推动 NIL 作为光子学行业的主流 HVM 技术的采用。