CMP 抛光工艺是集成电路制造过程中晶圆表面平坦化的关键工艺，而 CMP 抛光垫是 CMP 抛光工艺中的核心耗材之一。随着集成电路产业持续高速发展、晶圆厂大规模资本建设持续投入，以及集成电路制造技术不断升级带来的抛光次数的增加， CMP 抛光垫的市场前景广阔。

然而，CMP 抛光垫具有高门槛、技术密集、资金密集、客户验证壁垒高的特点，CMP抛光垫市场几乎都被美日企业所垄断，占据90%以上的市场份额。

图 全球抛光垫市场份额，公开数据

随着国内半导体行业发展，CMP抛光垫需求不断增大，带动了国内CMP抛光垫生产企业的发展，也有不少新入者加入，国产替代化加速。下面我们为大家简单介绍一下这些CMP抛光垫企业。如需补充，欢迎扫码加入行业交流群与我们一起交流：

美国

1、杜邦

杜邦是化学机械平坦化 (CMP) 抛光垫、浆料和应用专业知识的全球领导者，服务于半导体芯片制造行业和其他先进的基板抛光应用。杜邦可提供全系列的抛光垫和抛光液，CMP抛光垫产品占全球市场份额75%以上。

• 2009 年，陶氏化学收购罗门哈斯，获得了 CMP 抛光垫 技术和完善的专利布局；
• 2017 年，陶氏和杜邦合并；
• 2019 年，陶氏杜邦拆分后 CMP 抛光垫业务划分在新杜邦，电子材料业务板块。

官网：https://www.dupont.com/electronic-materials/cmp-pads.html

2、Thomas west Inc（TWI）

TWI成立于 1981 年，开始是提供用于硬盘驱动器 (HDD) 的抛光、纹理化和擦拭胶带，在 1990 年代开始利用该技术尝试进入 CMP 抛光垫市场，2000年推出CMP抛光垫产品。CMP抛光垫系列产品包括PuRa、WestPad。

官网：https://www.twimaterials.com/cmp-products/

3、CMC Materials

CMC Materials原名卡博特微电子公司（Cabot Microelectronics Corporation），是一家为半导体制造提供关键材料的全球供应商。CMP 抛光垫采用先进的聚氨酯化学和工程技术制造，可提供精确的硬度、孔径、可压缩性和凹槽图案，以满足各种 CMP 应用的要求。CMP抛光垫系列产品包括NexPlanar ®、MEDEA 、Epic™ 、Epic Power。

2021年12月15日，Entegris宣布收购合并CMC Materials，该交易预计将于 2022 年下半年完成。

官网：https://www.cmcmaterials.com/solutions/electronic-materials/cmp-pads/default.aspx

4、3M

3M公司创建于1902年，是一家世界知名的多元化科技创新企业。3M可提供创新、可靠的半导体CMP材料解决方案，包括 CMP 研磨垫和 CMP 研磨盘等。

3M™ Trizact™ 研磨垫结合了3M在造模、表面改质和微复制方面的科学技术，为先进节点的半导体制造提供了化学机械拋光的创新研磨垫。

官网：https://www.3m.com.cn/3M/zh_CN/semiconductor-cn/solutions/cmp-materials/

日本

5、富士纺FUJIBO

日本富士纺是半导体产业链重要供货商，主要开发高附加价值的研磨材料及CMP制程中使用的抛光垫。POLYPAS® 抛光垫专为硅片和各类半导体材料、金属、玻璃等的超高精度抛光而设计。

官网：https://www.fujibo.co.jp/en/division/polishingpad/product/

6、JSR

JSR利用在石油化学事业中长积累的高分子技术，开发用于半导体制造的材料，如光刻胶、化学机械平坦化(CMP)材料等。JSR于2002年开始生产CMP抛光垫，由其位于四日市工厂内的子公司Elastomix Co., Ltd. 生产。

官网：https://www.jsr.co.jp/

7、东丽Toray

日本东丽主要提供采用业界知名的不织布为底布的绒面抛光布以及精密单结构的聚氨脂抛光垫类型。可应用于各种精密加工抛光，包括硅片（晶圆），其CMP抛光垫产品于2006年开始出货。

官网：https://www.toray.cn/products/electronics/ele_0130.html

8、Nitta Dupont

NITTA DuPont Incorporated 于 1983 年由工业皮带市场的领先公司 NITTA Corporation 和半导体器件工艺抛光垫的顶级制造商 Rodel Inc.（现为杜邦）共同创立，双方各持50%股份。NITTA DuPont生产抛光材料，产品包括用于 CMP 工艺的抛光垫、抛光液和其他相关材料。

官网：https://www.nittadupont.co.jp/

韩国

9、FNS Tech

FNS Tech Co.，LTD成立于2002年3月，是一家以平板显示设备和半导体部件和材料技术为基础的成长型公司。FNS Tech于2013年10 月开始半导体CMP抛光垫业务。2021年，FNS Tech与三星电子合作开发了CMP抛光垫可重复再利用技术。

官网：http://www.fnstech.com/chinese/cmp-pad/

10、SKC

SKC成立于1976年，是一家积极扩张领域并持续创造价值的尖端材料专业公司。SKC在存储介质和聚氨酯事业领域累积的技术能力，奠定了研发半导体专业材料CMP抛光垫和空白光掩膜的基础，为半导体制造提供CMP抛光垫、CMP抛光液以及空白光掩膜等产品。

• 2015年，SKC从东省A&T手中收购了CMP抛光垫专利和营业权，开始进军CMP抛光垫事业。
• 2016年，SKC的CMP抛光垫产品获得韩国全球客户公司认证，京畿道安城龙月工业园区年产5万张CMP抛光垫工厂竣工

SKC从半导体CMP流程核心材料CMP抛光垫的原料（PRE-POLYMER）开始，逐步扩张至CMP 抛光液领域，计划成为半导体材料领域的全球领军企业。

官网：http://www.skc.co.kr/

11、KPX chemical

KPX chemical 成立于1974年7月，致力于聚氨酯产业的发展，生产和供应各种国际水平的聚醚多元醇产品，2004年开始进军电子材料事业（CMP抛光垫、光刻胶剥离剂等），开发有聚氨酯制成的CMP抛光垫 KONI 系列。

官网：http://www.kpxchemical.com/intro.php

中国台湾

12、智胜科技股份有限公司（iVT）

智胜科技股份有限公司创立于2002 年，主要从事半导体CMP 耗材。集团母公司 PVI是做 PU 原料的专家，基于对 PU 原料技术厚实的经验，花了2年的时间分析专利并进行硏发，开发出可用于CMP抛光垫的独特的发泡技术，在2002年成立智胜科技 iVT，正式踏入CMP抛光垫制造领域。

官网：https://www.ivt.com.tw/

13、贝达先进材料公司（三芳化学）

贝达先进材料公司成立于2006年，是三芳化学子公司，应用特有的专利技术，专注研发、设计、测试与加工制造高精密度研磨抛光垫，产品应用于微电子、显示器、光学、晶体衬底材料与硬盘基版等各种需要精密化学机械研磨抛光(CMP) 的产业。

官网：http://www.bestac.com/products.php

中国大陆

14、湖北鼎龙控股股份有限公司

湖北鼎龙控股成立于2000年，是一家从事集成电路芯片设计及制程工艺材料、光电显示材料、打印复印通用耗材等研发、生产及服务的高新技术企业，是国内CMP抛光垫领先供应商。

• 2012年，启动 CMP 抛光垫的研发；
• 2017年，获得首张订单；
• 2018 年，收购 CMP 抛光垫生产企业时代立夫，抛光垫技术实力得到大幅提升；
  

在产能方面，武汉本部年产10 万片CMP抛光垫一期产线已投产，年产20万片CMP抛光垫二期产线处于产能爬坡阶段，潜江50万片CMP抛光垫三期产线将在2022年年中进入设备调试、试运行阶段。

官网：https://www.dl-kg.com/

15、宁波江丰电子材料有限公司

江丰电子自成立以来一直从事高纯溅射靶材的研发、生产和销售业务。CMP产品主要有CMP用保持环（Retainer Ring）、抛光垫（Pad）、活化盘（Disk）以及组头服务等。

• 2016年11月，江丰电子与美国嘉柏（即CMC Materials）合作CMP抛光垫项目；
• 2017年11月，获得首张国产CMP抛光垫订单。
• 目前产能爬坡中。
  

官网：http://www.kfmic.com

16、宁波赢伟泰科新材料有限公司

宁波赢伟泰科新材料有限公司成立于2019年1月，是一家由海外回国博士和宁波阳明工业技术研究院共同出资创立的高新电子材料开发制造企业，专业从事半导体芯片制造用化学机械抛光工艺耗材的研发及生产，主要产品为化学机械抛光垫和保持环两大系列。赢伟泰科为江丰电子的关联公司。

17、苏州观胜半导体科技有限公司

苏州观胜半导体科技有限公司是一家从事半导体集成电路和芯片相关材料的生产服务商，由张家港以诺天使源投资企业、梵尔辰半导体(上海)和台湾智胜科技三方合资于2017年12月8日成立，面向国内半导体市场生产以PU聚氨酯为基材制作的CMP抛光垫。

18、无锡吉致电子科技有限公司

吉致电子科技有限公司创始于1995年，主要研发生产抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料，已有20余年的研发经验。产品广泛适用于金属、光电、集成电路半导体、硬盘、显示器、陶瓷等行业。

官网：http://jzdz-wx.com/

19、上海芯谦集成电路有限公司

上海芯谦集成电路有限公司成立于2021年1月，主要从事半导体化学机械抛光耗材的生产与研发，致力于成为国内领先的CMP耗材生产研发公司，2022年1月年产10万片的半导体用抛光垫生产线投产运营。

20、合肥宏光研磨科技有限公司

合肥宏光研磨科技有限公司（原合肥宏光特种磨具厂）成立于1988年，是国内光学玻璃及工艺玻璃磨具制造行业新兴的高科技企业，开发有CMP抛光垫产品。

官网：http://www.hefeihongguang.com/

21、万桦（常州）新材料科技有限公司

万桦（常州）新材料科技有限公司，是一家具有现代新型管理模式和强大技术实力的聚氨酯（PU）新材料的绿色环保新型企业，是⼀家集研发、⽣产、检测、营销为⼀体的新型企业，年生产能力为700万⽶以聚氨脂为主的高分子复合新材料。主要开发经营3C类；蓝宝石、硅片、锗片、碳化硅、砷化镓类；晶圆半导体类粗抛、精抛材料如：⽩磨⽪、抛光垫、阻尼布、吸附垫、无蜡垫。

官网：http://www.suwanhua.com/

22、万华化学集团电子材料有限公司

据烟台经开区公开信息显示，万华化学集团电子材料有限公司拟在烟台经济技术开发区进出口加工区内建设大规模集成电路平坦化关键材料（CMP Pad + slurry）项目，项目投资15.7亿元，达产年，研磨液产量1.5~2万吨/年，CMP 抛光垫产量60万片/年。

官网：https://www.whchem.com/

23、兴硅科技（江苏）有限公司

兴硅科技（江苏）有限公司的集成电路CMP关键材料项目于2022年1月17日签约无锡宜兴经开区，该项目总投资45.9亿元，分三期建设，其中一期计划投资8.7亿元，主要建设月产10000张研磨垫及500吨研磨液项目。

24、南通十方机电设备有限责任公司

公开资料显示，南通十方机电设备有限责任公司成立于2021年2月，拟在江苏启东市租用南通义利达机电制造有限公司 生产厂房进行年产 500 吨芯片晶圆抛光垫生产项目，目前项目已备案。