2021年9月27-29日,我从北京去深圳参加了第五届中国系统级封装大会(深圳站)的会议,并有幸担任SiP大会的分会主席,主持了两个分会场(分论坛7和分论坛9)。
另外,28日下午,我自己也发表了一份技术演讲《2.5D, 3D & 4D SiP设计方法学》,是关于SiP设计方法的技术报告,也是自己多年来对SiP设计经验的总结和思考,可以供SiP和先进封装设计人员借鉴。
下面,以图片形式将演讲的57页PPT分享在这里,供读者参考、学习和指正。

2.5D, 3D & 4D SiP设计方法学
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2.5D, 3D & 4D SiP设计方法学
2.5D, 3D & 4D SiP设计方法学

从2017年开始,历年的中国SiP大会都主办的很成功,目前在业内的影响力也越来越大。
今年,SiP大会在上海和深圳各举办了一场,吸引了众多的业界人士和学者,成为一站式深度学习全球SiP前沿动态的盛会!
今年的SiP大会(深圳站)更是和ELEXCON展会放在一起举办,参会人员在听讲座之余可以去展会会场参观,包含有150+芯片设计、EDA、封测、材料、设备展商集结在SiP专区,更有400平米晶圆级SiP先进封装产线现场展示!
希望中国SiP大会越办越好,让更多的人从中汲取到有用的知识,并推动中国SiP及先进封装技术的进一步发展!
 

原文始发于微信公众号(SiP与先进封装技术):2.5D, 3D & 4D SiP设计方法学

先进封装设备类似前道晶圆制造设备,供应商受益先进封测产业增长。随着先进封装的发展,Bumping(凸块)、Flip(倒装) 、TSV 和 RDL(重布线)等新的连接形式所需要用到的设备也越先进。以长球凸点为例,主要的工艺流程为预清洗、UBM、淀积、光刻、焊料 电镀、去胶、刻蚀、清洗、检测等,因此所需要的设备包括清洗机、PVD 设备、光刻机、 刻蚀机、电镀设备、清洗机等,材料需要包括光刻胶、显影剂、刻蚀液、清洗液等。为促进行业发展,互通有无,欢迎芯片设计、晶圆制造、装备、材料等产业链上下游加入艾邦半导体先进封装产业链交流群。
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