碳化硅外延炉是第三代半导体碳化硅器件制造的核心装备之一。此次“全新升级”的8英寸碳化硅外延设备，具备更快、更好、更稳定的特点，通过改进激光视觉定位、晶圆自纠偏等技术，设备自动化性能更加成熟，提升产品生产效率。设备还成功引入新的掺杂技术，进一步提升产品良率，持续降低生产成本。
原文始发于微信公众号（中国电科）：关键突破！中国电科48所8英寸碳化硅外延设备再升级
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