何为掩膜
- 光掩膜是一种通过PET、玻璃基板，在制造电子零件（半导体）、印刷电路板、MEMS等时使用的制图母版。
- 它是一种使用所谓的光刻技术，实现电子部件、印刷线路板的线路图等的复制的母版。
- 光掩膜被广泛应用于PWB、FPC等印刷电路板、封装电路板、液晶和触摸屏等的显示屏、半导体相关电子零件等领域。
光掩膜的制造特点
高精度光掩膜产品的质量保证
公司采用全间距测量设备对光掩膜产品进行全间距测量和检测。我们以高精度提高光掩膜的质量，保证质量，提供稳定的高质量产品。
用高精度的测量设备进行测量检查
交货期短的生产体制
公司采用24小时制的生产体制，在尽可能短的期限内交货。
一、薄膜掩膜
光掩膜中高性价比的基础光掩膜。此外，因为材质是聚酯基材，又轻又软，非常容易安装。
主要用途
PWB、FPC、电子零件、画报等
特征
- 性价比最高的光掩膜
- 因为材质是聚酯基材，又轻又软，非常容易安装。
- 数据编辑时的精细处理也没有问题。
- 还可处理30μm左右的精细图案。
支持数据
Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2 /ODB++
选项
支持贴层压薄膜
标准、规格
二、乳胶玻璃掩膜
与光掩膜中使用高感光率感光乳剂，采用玻璃基膜的光绘聚酯底片相比，它的尺寸安全性更高。
主要用途
LCD、OLED、电力零件、画报等
特征
- 与采用玻璃基膜的光绘聚酯底片相比，其尺寸安全性更高。
- 因为银粒子细小，干涉较少，所以感光率高。
- 数据编辑时的精细处理也没有问题。
- 使用高感光率感光乳剂，支持20μm的薄膜图案。
※一定条件下也支持20μm以下的图案。请向我们咨询。
支持数据
Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※另备有高保密度的收发方法，请联系我们。
选项
与硬涂层兼容
标准、规格
三、铬玻璃掩膜
满足高精度、高精细度等所有条件的高规格光掩膜。采用合成石英材料，曝光过程中温度发生变化，尺寸也能稳定不变。最小可支持2μm图案宽度的高精细度光掩膜。
主要用途
MEMS、LCD、OLED、WLP、薄膜芯片组件等
特征
- 因为无边缘，所以适合超高精细度的制图。
- 采用合成石英材料，曝光过程中温度发生变化，尺寸也能稳定不变。
- 遮光膜很薄，因此复制性能优良。
- 最小可支持2μm图案宽度。
支持数据
Gerber(274D/274X) / DWG / DXF / GDS2/ODB++
※另备有高保密度的收发方法，请联系我们。
选项
与薄膜防水和防油涂层以及硬涂层兼容。
标准、规格
基体材料对比表
基体材料/制造规格
画质对比（30μｍ）
各基体材料的伸缩率
资料来源：竹田東京官网
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