重磅!三星与长江存储合作

在NAND向400层以上迈进攻坚之际,三星做出了新的选择。

韩媒报道,三星已确认从V10(第10代)开始,将使用中国NAND制造商YMTC的专利技术,特别是在新的先进封装技术“混合键合”方面。

YMTC是最早将混合键合应用于3D NAND的企业,因此在相关技术上拥有强大的专利积累。三星电子选择通过与YMTC达成许可协议,而不是冒险规避专利,来化解未来可能出现的风险。

根据ZDNet Korea的报道,三星电子最近与YMTC签署了3D NAND混合键合专利的许可协议。

V10 NAND首次应用混合键合

V10是三星电子计划最早在今年下半年开始量产的下一代NAND。随着NAND技术的不断进步,存储单元会逐渐垂直堆叠,V10预计将达到420到430层。

V10 NAND将采用多项新技术,其中最重要的是W2W(Wafer-to-Wafer)混合键合技术。

W2W混合键合是指将两个硅片直接结合的封装技术。这项技术省去了传统芯片连接中所需的“凸点”(Bump),使得电路路径变得更短,从而提高性能和散热特性。特别是将整个硅片直接结合的W2W技术,也有助于提高生产效率。

过去,三星电子通常在单个硅片上布置控制电路(Peripheral),然后在其上堆叠存储单元,这种方式被称为COP(Cell on Peripheral)。但当NAND堆叠超过400层时,底部的控制电路承受的压力增大,会影响NAND的可靠性。

因此,三星电子决定在V10 NAND中采用将存储单元和控制电路分别在不同硅片上制造,然后通过混合键合将它们合并的技术。

选择“许可协议”而非规避

然而,这一计划的实现面临着主要来自现有海外企业的专利问题。3D NAND的混合键合技术是中国最大NAND制造商YMTC在大约四年前首次应用的。YMTC将这项技术命名为“Xtacking”。

在创业初期,YMTC通过与美国科技公司Xperi签署许可协议获得了混合键合技术的原始专利。随后,YMTC还在NAND封装技术方面建立了相当多的自主专利。

因此,三星电子与YMTC签署了混合键合专利的许可协议。三星电子选择通过达成共识来避免专利风险,而不是冒险规避,这一策略旨在加速技术开发的进程。然而,是否与Xperi等其他公司进行专利谈判,目前尚未确认。

知情人士表示:“混合键合相关的技术专利,Xperi、YMTC和台积电TSMC三家公司几乎拥有了大部分专利。三星电子也判断,未来在V10、V11、V12等下一代NAND开发中,规避YMTC的专利几乎不可能,因此选择了签署许可协议。”

对于三星来说,这一技术突破解决了下一代NAND开发中的“核心难题”。韩媒认为,但三星或面临市场主导权丧失的风险,以及由于专利使用可能导致的技术依赖等忧虑。

SK海力士有望跟进

去年年底就有报道称三星已成功开发出突破性的400层堆叠NAND闪存技术,并已开始将该技术转移到大规模生产线。

这一进展有望超越前不久已宣布量产321层NAND的SK海力士。

目前,三星在全球NAND闪存市场市占率为36.9%,面对SK海力士的竞争,三星的这一突破显得尤为重要。

SK海力士当然不甘于此,据传也有可能与YMTC签署专利协议。

此前,SK海力士副社长金春焕在2024年2月的“Semicon Korea 2024”大会上表示:“我们正在开发一种新平台,在400层级NAND产品中通过混合键合技术提高经济性和量产性。”

 

原文始发于微信公众号(川渝半导体信息):重磅!三星与长江存储合作

先进封装设备类似前道晶圆制造设备,供应商受益先进封测产业增长。随着先进封装的发展,Bumping(凸块)、Flip(倒装) 、TSV 和 RDL(重布线)等新的连接形式所需要用到的设备也越先进。以长球凸点为例,主要的工艺流程为预清洗、UBM、淀积、光刻、焊料 电镀、去胶、刻蚀、清洗、检测等,因此所需要的设备包括清洗机、PVD 设备、光刻机、 刻蚀机、电镀设备、清洗机等,材料需要包括光刻胶、显影剂、刻蚀液、清洗液等。为促进行业发展,互通有无,欢迎芯片设计、晶圆制造、装备、材料等产业链上下游加入艾邦半导体先进封装产业链交流群。

By 808, ab

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